荷兰ASML传来新动静，1nm光刻机卖30亿，三星、台积电非买不成 -

据了解，NXE:5000系列将面向3nm制程工艺节点，甚至更高精度。据悉，新一代EUV光刻机将采用双重曝光方案，从而实现3nm芯片生产。

不过，这将造成光刻机制造程序更加复杂，同时也将增加芯片的生产成本。但是，ASML的这一突破，对正在发力更高精度芯片的台积电、三星来说，绝对是一件益事。

此外，IMEC还展示了3nm、2nm、1.5nm，乃至1nm以下的逻辑器件小型化设计图，让人眼前一亮。

通过IMEC的介绍可知，如今ASML已经基本完成了1nm光刻机的设计，这表明1nm芯片离众人又进了一步。

据相关消息称，ASML计划在2023年年中时，推出下代EUV光刻机设备原型。值得注意的是，下代EUV光刻机的要价十分高昂，是当前款式的2-3倍，售价高达4.5亿美元（折合人民币30亿元）。

但即便如此，三星、台积电仍是抢着要。想要攻克3nm、2nm芯片，更先进的EUV光刻机必不可少，为赢得技术领先，二者自然不惜砸下巨资。

据Business Korea报道，ASML执行长Peter Wennink近日访问三星半导体厂，与三星共同商讨EUV光刻设备的供给与发展合作案。

据报道，三星希望能同ASML组成科技联盟，从而拿到更多的新一代光刻设备。目前，ASML大部分EUV光刻机都进入了台积电的口袋，台积电曾表示，其已经安装了全球将近5成的激活光刻机。

而在近日，台媒又传来消息称，台积电采购了35台EUV设备。并且在2021年年末，台积电采购总量将在50台以上。这给三星的发展带来了不小的压力，毕竟三星早有想要超越台积电的想法。

为了实现反超，三星自然需要更多的先进光刻机。而对ASML来说，新一代EVU设备需要不小的研发投入，与三星合作将获得资金上的支持，也不失为一件益事。

如今三星已经出手，而台积电自然也不会坐以待毙。为保住自身的领先优势，台积电将作出怎样的行动，十分令人期待。

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文/BU 审核/子扬 校正/知秋

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