“冰刻机”来了？浙江西湖年夜学另辟门路，或将解决光刻困难 -

单从芯片设计方面来看，华为的实力已经是全国最强，在全球都可以排名前列的。但是华为能设计却没人能制造，芯片制作工艺，是国内的技术所完成不了的。如果华为因为芯片的断供而后退，那么我国将处处受制于人，所以说，芯片是中国和美国的博弈中，国产技术能够翻身的关键。

那么，阻碍华为芯片自主研发的技术到底是什么呢？为什么还没有突破呢？这项最重要的技术就是“光刻机”。那么华为能够设计出排名全球前列的芯片，才能在5G技术上做到世界第一，那为什么就是研发不出一款高精度的“光刻机”呢？说到底还是中国的底子比较薄弱，基础工业还不够成熟。但就在前几日，西湖大学副院长仇旻团队在研究中，有重大的突破，“国产芯”再一次看到了新希望。“冰刻机”来了？浙江西湖大学另辟蹊径，或将解决光刻难题。

西湖大学自2012年开始，就成立了“冰刻研究计划”，经过了六年的努力，2018年冰刻计划终于有了初步的成果，世界首台冰刻系统问世。这一项目也得到了国家的大力支持，两年之后的2020年，冰刻项目又获得了重大的突破，“冰刻2.0”即将来袭。仇院长和他的大学团队在实验室中，完成了“光刻”到“冰刻”的转变，既然“光刻”不行，那咱们就走“冰刻”，人要懂得变通，在此也得不佩服科研人员的付出与智慧。

光刻机的替代品“冰刻机”？浙江西湖大学重大突破。

实际上“光刻”原理并不难，难的是上面的光刻胶很难清理，清理不干净就影响光刻机的精度。想要在这一方面精进需要时间，台积电之所以能走到现在这个高度是一步一个脚印慢慢走出来了的，而在芯片制造上落后的我们想要短时间内解决这个问题是不可能的。想要追赶上必须弯道超车，仇院长发现水蒸气在-130℃，会凝结成无定形冰，当电子束在做这层无定形冰上时，被打到的冰会“自行消失”。同时当温度升高，芯片表面这残留会自动消失，方便后续的操作，这样看来，“冰刻”比传统的方式更加方便。

先不谈两种工艺的高低，优劣。关于这项研究的未来，相关人员也表示有可能这个研究到头来竹篮打水一场空，但也有可能取得重大的突破，让国产芯片可以打破美国的垄断。

据了解，“冰刻2.0”的仪器一起已经制作出来了，但目前还无法投入使用。仇旻院长和他的大学团队，也还在进一步的提升冰刻技术。目前，他们已经在冰刻上研究了八年了，从六年前，冰刻的问世，到今天“冰刻2.0”的突破。可以看出，总有一些人在默默的为中国奉献。对于冰刻研究，希望能取的更多的成果，早日投入到使用中去，这样不用给外国人交钱，以后我们买手机也能便宜一点，不是么？

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