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文 | 考拉科技馆 排版 | 考拉科技馆
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这不是演习,中国版“7nm芯片”正式登场!
自美国针对华为颁发芯片禁令后,芯片二字就成了国内科技圈热议的主要话题。由于早些年国内大部分科技企业都信奉造不如买,买不如租的发展理念,这导致国内半导体产业的发展看似繁荣,实则危机无处不在。
之前,因为没有美国的横加干预,国内芯片公司只需要向ARM这样的芯片架构公司买个架构,然后自己设计一番,就可以交给台积电生产芯片了,过程总体来说相对简单。
不过,现在情况不同了,因为美国的干涉,现在台积电已经对部分国内芯片公司关紧大门,不再帮忙代工芯片。
这直接就导致国内部分芯片公司陷入了生死存亡的大危机,自研的芯片也面临成为绝版的命运。
如何解决国内半导体产业孱弱的问题呢?目前国内主要分为两条线,一条是国家层面,不久前,国内第一所芯片大学,“南京集成电路大学”正式成立。此外,国家还推出诸多激励措施,用最高十年免税的福利来鼓励国内半导体企业搞研发。
第二条线来自国内科技企业及机构,前段时间,国内顶级科研单位中ke院已经决定举全院之力来攻克光刻机等关键技术。此外,华为海思也启动招募计划,向外界招收半导体重要细分领域的优秀人才。
这不是演习,在美方的针对下,中国半导体产业必须崛起,没有幻想可言!
值得一提的是,在多方努力下,近期国内的芯动科技发布重磅消息,该司已完成全球首个基于中芯国际FinFET N+1先进工艺的流片和测试,所有IP全自主国产,且功能测试一次通过。
中国版“7nm芯片”登场!
据国内芯片领域的专家透露:中芯国际的FinFET N+1相当于台积电的7nm工艺,不过在性能方面要略差一点,但总体差距不大,可以算是中国版的“7nm芯片”。
中国版“7nm芯片”登场,半导体行业至少有三个没想到!
第一个没想到是中芯国际的技术,据悉,这次中芯所生产中国版“7nm芯片”,所用到光刻机并不算先进,可以说是比较老式的光刻机。但就是在条件如此窘迫的情况下,中芯国际却通过技术手段,强行拔高了芯片工艺制程。
中芯国际的这份技术,是半导体行业没想到的。
第二个没想到是7nm芯片的生产并非一定要用到EUV光刻机。像目前国际一流的芯片代工厂台积电,其在生产7nm芯片时,所用到的光刻机是EUV光刻机,而美国芯片制造巨头英特尔,虽然其7nm芯片工艺制程因存在缺陷无法生产,但是其实验用到的光刻机,就是EUV光刻机。
英特尔拥有EUV光刻机,尚不能生产7nm芯片,而中芯却用一台老式光刻机,生产出性能略逊色于主流的7nm芯片,这是让半导体行业没想到的,没想到不用EUV光刻机,也能造出7nm芯片。
第三个没想到是突破速度,此前,高盛曾作出预测,认为中芯国际应该要到2022年才能实现7nm芯片的生产,也即是FinFET N+1工艺。但是现在,中芯国际却在2020年就完成了7nm芯片的生产,虽然略逊色主流7nm芯片,但也足够了不起了,出乎一众分析机构的预料。
而中芯国际的突破速度,也是半导体行业所没想到的。
业内认为,中芯国际的突破,在某种程度上也跟美国的重压有密不可分的联系。美国的一次次针对,每时每刻都在鞭策着国内半导体企业,让他们放下幻想,全力搞研发。
而在美国的“鞭策下”,中国产业的崛起速度也必然会被加快!
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