光刻机之后，国产芯片再传好动静，打破日美垄断不再受制于人 -

光刻机对于芯片制造的重要性已经是不言而喻，光刻机已经成为了我国芯片领域发展的一大阻碍。好在，近年来上海微电子不断取得突破，不但在低端光刻机领域拿下不小份额，还在近日实现了22nm光刻机再突破。而光刻机之后，国产芯片再传好消息，有望打破美日垄断不再受制于人

光刻机有三大核心子系统，它们为工件台、光源与投影物镜。其中，在光刻机双工件台领域一直被ASML所垄断，但以清华大学朱煜教授为领队的华卓精科却用数年的时间，打破了这一局面。如今，华卓精科已经成为全球第二个掌握光刻机双工件台的企业，给那些不看好中国的海外企业狠狠回击。

在上海微电子的背后，便有着华卓精科的助力。如今，华卓精科正冲刺科创板，IPO申请已获受理。近两年来，华卓精科的营收与净利润不断改善，其营收已经从2017年的5410.2万元，增至2019年的1.2亿元。值得注意的是，在明年，华卓精科的DWSi系列双工件台有望亮相，售价高达6000万元。

同时，在光刻胶领域，我国科技巨头也有突破。作为光刻机、芯片制造核心材料的光刻胶，却常年为日美企业所垄断。据悉，全球87%的光刻胶市场，都被日美企业掌握。我国在光刻胶领域的缺失，成为我国芯片安全造成重大威胁，是国产芯片领域的第一道门槛。

尽管光刻胶制作难度极高，但依然有不少国产企业于该领域不断耕耘。2014年，首期募资1387亿元的国家集成电路产业投资基金成立，部分资金将用于芯片材料领域。同时，作为中国光刻机领先企业的南大光电，也有出众发挥。

目前，南大光电所研发的ArF光刻胶弥补了我国在高端光刻胶的空白，制作难度、制程仅次于EUV光刻胶。而且，南大光电还斥资6.56亿元，耗时3年时间用于193nm光刻胶生产线的建设，该生产线预计年产能为25吨。南大光电的种种成绩，有力地推动了我国光刻胶市场的发展。

据南大光电官方表示，其上述项目预计将在今年年底验收，其光刻胶产品，也正处于预期1年的客户验证阶段。上海微电子、华卓精科、南大光电这些企业的崛起，有助于早日实现我国芯片安全，自主可控。

文/BU 审核/张子扬 校对/叶知秋

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